2024年1月13日，原磊纳米首台先进制程ALD团簇机台A300正式出厂交付客户，标志着原磊纳米在集成电路先进制程前道镀膜工艺实现了新的突破，并向着12英寸晶圆制程中薄膜沉积设备国产化又迈出了坚实的一步。




原磊纳米此次出货的ALD团簇式设备 A300 是集成电路先进工艺的关键薄膜沉积设备，基于原磊纳米自主研发的Elegant Cluster平台打造，主要应用于12英寸先进制程的逻辑、存储器件等生产制造，可满足氧化物、氮化物、金属等多种薄膜沉积。Cluster A300实现了PE和Thermal工艺的无缝衔接，其中Thermal ALD工艺腔配置了plasma自清洁功能，大幅提高了工艺稳定性并延长了PM周期。该平台的各项工艺性能均达到了国际先进水平，并获得多方客户的肯定。

自成立以来，原磊纳米深耕ALD设备技术，通过不断创新和突破，产品线已实现了在集成电路先进制程、化合物半导体、光电、新能源、光学、科研等领域的全面覆盖，填补了多项国产化空白。

秉承着“专业、创新、诚信、责任”的核心价值观，原磊纳米将继续乘势而上、锐意进取，打造一个纯国产先进半导体设备的高端民族品牌，为先进半导体镀膜设备的国产化替代贡献自己的力量。