2023年10月19日至21日，第十届中国原子层沉积会议（China ALD 2023）在浙江·嘉善盛大召开。原磊纳米作为白金赞助商向与会嘉宾呈献了精彩的演讲和公司研发领域的标杆产品，并与 ALD领域的专家学者和企业精英共同探讨了ALD的发展现状未来技术方向。

图片来自CALD组委会

在演讲中，原磊纳米董事长郑锦先生介绍了公司专门针对研发领域开发的Elegant II-Y系列产品。为配合目前半导体材料的科研方向，该系列针对HfO2、Al2O3等氧化物，TiN、AlN等氮化物以及Ru等金属沉积进行了大幅优化，可以实现理想的镀膜工艺。此外，公司的业务也在2022及2023年得到了长足发展。为配合市场战略，公司于2022年分别成立了徐州装配中心和精密加工中心，实现了从设计、非标件生产、组装到销售的垂直一体化经营模式。

图为郑总向嘉宾展示公司概况

图为南京原磊Elegant II-Y系列产品

在随后的报告中，公司的工艺总监时秋伟博士发表题为《ALD在高深宽比器件制造上不可替代的应用》的演讲。报告从ALD在高深宽比器件领域的工艺优势和应用出发，详细介绍了原磊纳米针对上述器件设计的独特FV-ALD工艺。通过更加稳定的反应腔内气流环境与特殊工艺条件的配合，原磊纳米的ALD设备可以实现在深宽比超过1000：1的沟道内Al2O3、HfO2和TiN的均匀保型沉积。

在原磊纳米的展位上，标杆产品研发型Elegant II-Y系列精彩亮相，与会嘉宾对公司提出的一站式科研用解决方案表现出高度的兴趣和认可。

祝贺第十届中国原子层沉积会议获得圆满成功，也祝愿原磊纳米为中国原子层沉积技术继续添砖加瓦，勇攀高峰。