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ELEGANT Ⅲ PRO 200/300系列

产品亮点
  • 采用了双腔设计和独立源入口从而保证了源利用率并减少了交叉污染
  • 集成自主研发的传输系统可实现一键操作降低污染
  • 可同时实现等离子体增强和臭氧工艺
  • 可定制集成光谱椭偏仪、QCM、XPS、RGA等系统
  • 开发的独特处理工艺-即ISSET技术能够大幅提升功率器件的电学性能
  • 符合CE标准
技术参数
  • 晶圆尺寸 12英寸向下兼容可定制
    装片能力 1片/次
    前驱源管路 6路独立管路可定制
    适用ALD沉积工艺 Al2O3、HfO2、SnO2、AlN、TiN、SiN、Ru、Co等氧化物、氮化物及金属
    适用ALE刻蚀工艺 SiO2、HfO2、TiO2、SiN等氧化物、氮化物
    应用领域 科研、化合物、特殊记忆体、MEMS、泛半导体、光学器件等
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